عملية 350 نانومتر (Q3475076)

من Marefa data

semiconductor manufacturing processes with a 350 nm MOSFET technology node ^{الإنجليزية}

عملية ٣٥٠ نانومتر

اللغة	التسمية	الوصف	أسماء أخرى
العربية	عملية 350 نانومتر	لا يوجد وصف	عملية ٣٥٠ نانومتر
الإنجليزية	350 nm lithography process	semiconductor manufacturing processes with a 350 nm MOSFET technology node	350nm 350 nm 0.35μm 0.35 μm 0.35-micrometre 0.35-micron 350 nanometre process

بيانات

Wikidata item ^{الإنجليزية}

٠ مرجع

Freebase ID ^{الإنجليزية}

١ مراجع

Imported from Wikidata item ^{الإنجليزية}

stated in ^{الإنجليزية}

International Technology Roadmap for Semiconductors ^{الإنجليزية}

١ مراجع

Imported from Wikidata item ^{الإنجليزية}

follows ^{الإنجليزية}

عملية 600 نانومتر

١ مراجع

Imported from Wikidata item ^{الإنجليزية}

followed by ^{الإنجليزية}

عملية 250 نانومتر

١ مراجع

Imported from Wikidata item ^{الإنجليزية}

subclass of ^{الإنجليزية}

طباعة ضوئية

١ مراجع

Imported from Wikidata item ^{الإنجليزية}

وصلات الموقع

Marefa(٠ : لا وصلات)

ويكيبيديا(٥ وصلات)

مجلوبة من «https://data.marefa.org/w/index.php?title=Q3475076&oldid=46641078»